焦磷酸鹽鍍銅添加劑
產品介紹
RC- 203 焦磷酸銅電鍍光亮劑
一、 特點
1.鍍液呈微堿性，且有非常好的深鍍能力，故特別適用于形狀復雜的鋅壓鑄件。
2.鍍層光亮平滑，電流密度范圍寬闊。
3.可作滾鍍或掛鍍使用。
4.單組分光劑，容易管理。
二、鍍液組成及操作條件
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原料及操作條件 |
范圍 |
標準 ( 一般開缸份量 ) |
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焦磷酸鉀 (K 4 P 2 O 7 ) |
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250 克 / 升 |
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焦磷酸銅 (Cu 2 P 2 O 7 • 4H 2 O) |
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70 克 / 升 |
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氨水 |
(NH 4 OH) |
2-4 毫升 / 升 |
3 毫升 / 升 |
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焦銅RC-203光亮劑 |
1-2 毫升 / 升 |
1 毫升 / 升 |
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金屬銅 |
(Cu++) |
20 - 30 克 / 升 |
23 克 / 升 |
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焦磷酸根 |
（ P 2 O 7 4- ） |
125 - 230 克 / 升 |
150 克 / 升 |
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焦磷酸根 : 銅 (P 比 ) |
6.5 - 7.5 : 1 |
6.9: 1 |
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溫度 |
50 - 55 ℃ |
55 ℃ |
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pH |
8.6 - 8.9 |
8.6 |
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陰極電流密度 |
1 - 6 安培 / 平方分米 |
4 安培 / 平方分米 |
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三、配制鍍液
1.注入二份之二的水于代用缸(或預備槽)中，加熱至50℃。
2.加入所需的焦磷酸鉀，攪拌使其完全溶解。
3.加入焦磷酸銅，強烈攪拌且至完全溶解。
4.加入2毫升/升雙氧水，加入前先以水稀釋，攪拌打氣2小時。
5.加入活性碳2-4克/升，攪拌數小時，然后靜置整晚。
6.用過濾泵，把鍍液濾入清潔之電鍍槽內。
7.加水至水位，把鍍液加熱至工作范圍。
8.加入稀硫酸，調整酸堿度(pH值)至8.6。
9.用波浪狀的假陰極(Dummy Cathode)以低電流密度(0.1 - 0.4安培/平方分米) 連續電解數小時。
10.加入上表中的RC-203光亮劑后，便可以開始試鍍。
四、設備
1. 鍍槽 柔鋼(Mild Steel)缸襯上合適的橡膠、聚氯乙烯或聚丙稀。
2. 加熱器 可用不銹鋼、鈦、或石英電筆加熱。
3. 陽極 須能用OFHC無氧高導電銅棒。不適宜使用鈦藍盛載小塊的銅粒，以免影響陽極電流密度及陽極的溶解。
4. 陽極袋 不需要。
5. 過濾泵 鍍液需要連續循環過濾。過濾泵至少能在1小時內將鍍液過濾4次。
五、添加劑的補充
補給方法
RC-203焦磷酸銅添加劑 消耗量(1000安培小時)
焦銅RC-203光亮劑 180-220毫升
視操作溫度、攪拌程度及液面面積而定，氨水補充量約0.05 - 0.1毫升/升/小時
六、操作要點
1.注意焦磷酸鉀、焦磷酸銅的純度和雜質。部分市面上的焦磷酸鉀含結晶水，致令焦磷酸根比例下降，此時應重新計算及再調整。
2.陽極應用OFHC純銅(無氧高導電銅) 。
3.加入大量氨水后，宜打氣攪拌一會后，才直接電鍍。
4.鍍液的P比(焦磷酸根:銅)及pH值的控制至為重要。
七、故障處理方法
故障 成因 糾正方法
高電位燒焦 a)金屬銅過低 a)分析補充
b)焦磷酸根含量偏低 b)分析補充
c)電流密度太大 c)調整至標準范圍
d)鍍液溫度太低 d)加溫至50 – 55℃
e)空氣攪拌不足 e)檢測設備，提高攪拌氣量
低電位暗啞 a)氨水過多 a)升溫趕走氨水
b)溫度過高 b)降低溫度至50 – 55℃
c)焦磷酸根偏低 c)分析及補充焦磷酸根
低電位階梯狀鍍層 光劑過多 電解或活性碳處理
鍍屠不光亮 a)光劑不足 a)加光劑0.1-0.2毫升/升
b)氨水不足 b)加氨水1 - 2毫升/升
c)氰化物帶入 c)檢查氰化物來源，加入1-2毫升/升
雙氧水，攪拌1小時后再鍍
鍍層發脆 有機雜質污染 活性碳處理
鍍層有暗啞斑點 六價鉻污染 以1安培/平方米電解處理
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