「三價鉻電鍍」三價鉻電鍍出現沉淀的原因以及管控方法-仁昌分享
電鍍三價鉻是目前比較實用的代替六價鉻的電鍍工藝,鍍液主要有硫酸鹽和氯化物體系的鍍液。
同樣的毒液在使用的過程中會出現各種各樣的問題,其中一種就是
鍍液沉淀。
發生這種故障的主要原因有:
1、鍍液的pH值偏高;鍍液的密度太大;鍍液中的穩定劑含量不當;鍍液中主鹽的含量太高等。
因為當鍍液pH>3時,往往會導致鍍液中的三價鉻出現沉淀。氯化物三傷鉻鍍液的pH值調整通常是采用氨水/鹽酸,在調整鍍液的pH值時,pH值發生變化到穩定的時間較長,所以需要精確計算需要加入的量,避免pH>3時鍍沼出現Cr(OH)3,要嚴格控制鍍液的pH值在工藝要求范圍內。
2、需要嚴格控制三價鉻電鍍需要將鍍液的密度,密度太高也容易使得鍍鉻沼出現沉淀,氯化物三價鉻鍍液密度的控制范圍為1.20~1.24,鍍液的密度太高時需要用純水稀釋。
3、通常情況下三價鉻鍍液中含有一定的絡合劑,如果絡合劑含量不當也會出現鍍液沉淀,絡合劑需要嚴格按照安培小時消耗進行補加或通過滴定分析來進行調整。
4、嚴格控制三價鉻鍍液中的三價鉻含量,含量過低會導致鍍鉻層沉積速度慢,含量過高會導致鍍液沉淀,氯化物三價鉻鍍液的三價鉻控制范圍為209/L~239/L。
三價鉻濃度的調整可以根據滴定分析結果進行。
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